Application note?
穩(wěn)定快速的真空沉積氣體流量控制
反應濺射真空沉積
質(zhì)量流量控制器用于真空沉積設備，用于向過程供應氣體時確保以可控和準確的方式完成。理想狀態(tài)是儀表可快速響應并在幾毫秒內(nèi)達到設定值。FLEXI-FLOW Compact可幫助此類需求用戶。
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應用要求快速流量控制在真空沉積技術中很重要。每一秒都節(jié)省時間和能源，提高沉積設備的效率。氣體流量需要以可重復的方式以較大的動態(tài)流量范圍提供，并具有長期穩(wěn)定性，以確保質(zhì)量。 |
重要議題
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工藝方案FLEXI-FLOW Compact 質(zhì)量流量控制器的響應時間達到150毫秒，無超調(diào)，可以滿足真空涂層客戶需要多通道流量解決方案，提供穩(wěn)定快速流量控制和關閉功能的要求。 快速響應流量控制真空沉積設備的用戶需要響應快速的氣體供應系統(tǒng)。其優(yōu)化壓力和氣體流量等工藝條件，并在涂層過程中測量涂層厚度來監(jiān)測結果。在此過程中，應保持穩(wěn)定、受控的氣流，以保持涂層的正確厚度和成分。 |
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| 當濺射系統(tǒng)監(jiān)測到厚度或透明度出現(xiàn)偏差時，會通過調(diào)整氣體流量來糾正沉積過程。因此，需要非?？斓牧髁靠刂?，響應時間150毫秒。
FLEXI-FLOW質(zhì)量流量控制器可以做到。如果入口壓力發(fā)生變化，氣體流量控制器以盡可能快的速度響應將流量保持在設定值。當反應室發(fā)生變化，流量控制器接收到新的設定值。對新的設定值的快速響應可以減少浪費和不合格產(chǎn)品。 |
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關閉功能可集成切斷閥，以減少真空階段真空室的泄漏，尤其適用于超高真空反應器。 大動態(tài)量程大動態(tài)量程和1:1000大動態(tài)量程比減少了所需的型號和備件數(shù)量，并提高了真空沉積設備的靈活性。 通信接口緊湊型多通道解決方案利用Ethernet, EtherCAT 和 Profinet等工業(yè)協(xié)議可通過網(wǎng)關選擇接口。數(shù)據(jù)可用于預測性維護。 |
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